国产三大光刻机高精尖技术全突破

2021-9-17 17:59| 发布者: cncelab| 查看: 2183| 评论: 0

摘要: 双工件台是ASML应用于EUV光刻设备的为数不多的独有技术，就连日本老牌光刻巨头尼康和佳能，也没能达到比肩ASML的1.8nm水平。 ASML之所以会不看好我们实现高精尖光刻设备的国产化，很大原因就是它对自己所垄断的双工件 ...

【消费电子实验室-2021/9/17】虽然EUV号称拥有十万个精密零件，但其难度系数最高、最核心的技术只有三项，分别是：光源、光学镜头、双工件台系统。

在今年初，由唐传祥教授带领的清华科研团队，通过SSMB认证探索出了一种新型加速粒子加速器“稳态微聚束”，其波长可从太赫兹覆盖到极紫外光波段，而极紫外光正是EUV设备的核心光源技术。

这意味着，被美企所垄断的光源技术正式被中国科学家打破。业内人士表示：研发出了自主光源，就等于EUV光刻机研发完成了一半。

另据媒体报道，在清华科研团队的技术支持下，华卓精科自主研发的双工件台系统实现了全面升级，其应用精度现阶段已达到了1.8nm的全球顶尖水平。

要知道，双工件台是ASML应用于EUV光刻设备的为数不多的独有技术，就连日本老牌光刻巨头尼康和佳能，也没能达到比肩ASML的1.8nm水平。

ASML之所以会不看好我们实现高精尖光刻设备的国产化，很大原因就是它对自己所垄断的双工件台技术相当自信。可没想到打脸会来的这么快。

特别值得一提的是，在光源系统和光学镜头方面，中科院的首台高能辐射光源与中科科美的0.1nm镀膜装置均已投入使用。

综上所述，现阶段EUV最复杂的三大核心技术均已完成突破，正如林毅夫教授所预言的那样：国产高精尖光刻设备的落地应用，在三年之内或许就能完成。

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