南大光电ArF光刻胶获突破，可用于7nm芯片生产

2021-7-6 19:43| 发布者: cncelab| 查看: 1099| 评论: 0

摘要: 今年五月份南大光电首度披露的研发成果，正是ArF光刻胶，该产品已经能够适配于55nm芯片的生产，而南大光电也表示，这类光刻胶能够用来生产众多工艺水平的芯片，从90nm到14nm，再到7nm芯片生产都可以。

【消费电子实验室-2021/7/6】在光刻胶市场中，产品共分为四大类，使用量大的两种光刻胶，已经是各大企业最基础的生产原料，而最顶尖的两种则是被日本企业所垄断，ArF光刻胶就是其中一个。

今年五月份南大光电首度披露的研发成果，正是ArF光刻胶，该产品已经能够适配于55nm芯片的生产，而南大光电也表示，这类光刻胶能够用来生产众多工艺水平的芯片，从90nm到14nm，再到7nm芯片生产都可以。

生产出来的顶尖芯片，可以广泛应用到人工智能操作系统、5G通信技术领域和云计算方面，性能堪称一流。

由此可见南大光电此番取得的成就非同一般，未来研发更高水平的芯片已经不是问题。

南大光电未来的发展会如何呢？

目前，世界芯片的供应越发紧张，除了各大芯片代工企业的生产线不够用之外，半导体材料也略显紧张，这就导致芯片市场迎来了一波涨价热潮，也相应地促进了各大企业进行产能扩充的计划。

中芯国际和台积电等企业，都在紧锣密鼓地筹划生产线的扩充，未来将会有更多的半导体材料需求，届时南大光电的顶尖光刻胶势将会大有用武之地。。

但是，日本的信越化学、住友和ISR等企业都还处于不败之地，甚至五家日本企业在全球的市场份额已经达到了87%。南大光电要做的不仅是产品的研发，更是技术水平的提升，从而获取更多的订单和市场份额。

前不久南大光电也已经扩建了一条光刻胶生产线，预计产能会达到25吨，南大光电已经突破技术，迅速投入生产，尽可能早地入局国际光刻胶市场，谋求市场份额。

得注意的是，这条生产线中，绝大多数生产设备都是国产自研设备，不会受到任何一家外国企业的垄断控制。

新闻资讯